Fraunhofer zeigt neue thermooptische Messanlage

von Alexander Kirschbaum

Das Fraunhofer-Zentrum für Hochtemperatur-Leichtbau HTL aus Bayreuth ist Aussteller auf der UNITECR 2015. Die weltweit größte internationale Fachkonferenz für Feuerfestforschung findet vom 15. - 18. September 2015 in Wien statt. Auf Stand 45 präsentiert das HTL erstmals die neuartige Thermooptische Messanlage TOM_chem.

Zur Prüfung von Hochtemperaturmaterialien und zur Optimierung ihrer Herstellprozesse entwickelt und baut das HTL seit einigen Jahren thermooptische Messanlagen (TOM). Dabei handelt es sich um Labor-Messöfen, mit denen erstmals die Bedingungen in Industrieöfen nachgestellt und die relevanten Materialveränderungen während der Wärmebehandlung präzise gemessen werden können.

In der neuen Anlage TOM_chem werden chemische Veränderungen von Hochtemperaturmaterialien unter dem Einfluss korrosiver Gase oder abrasiver Partikel gemessen. Dabei können Gasströmungen mit Geschwindigkeiten bis zu 40 m/s und Temperaturen bis zu 1450 °C eingestellt werden. Als Prüfgase können z. B. CO, CO2, O2, N2, Ar, NH3, SO2, H2O, H2S, NOXHY  sowie verschiedene Dämpfe verwendet werden. Um Abrasionseffekte zu untersuchen, werden Stäube mit Partikelgrößen zwischen 0,5 µm und max. 100 µm in Mengen von bis zu 10 g/m³ zugesetzt. Während des Auslagerungsvorgangs wird das Probengewicht mit einer speziellen Magnetschwebewaage gemessen.

Die magnetische Ankopplung der Probe an die Wägevorrichtung ermöglicht eine Abtrennung der korrosiven Prüfgase von der empfindlichen Messsensorik, da diese die Gewichtsmessung stören. Dabei wird der Gasstrom kurz in einen parallelen Kanal eingeleitet, in dem die Gaszusammensetzung bestimmt werden kann. Mit TOM_chem können erstmals Korrosionsvorgänge, wie sie bei vielen Hochtemperaturprozessen auftreten, unter definierten Bedingungen untersucht werden.

Quelle: Fraunhofer-Institut für Silicatforschung ISC Bildtext: Auf der UNITECR 2015 stellt das Fraunhofer-Zentrum HTL erstmals TOM_chem der Öffentlichkeit vor. (Foto: FraunhoferISC)

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